半导体薄膜设备将由“沈阳造”

06.04.2016  08:00

  本报讯(沈阳日报、沈阳网记者黄超)4月3日,在位于浑南新区进出口加工区的一片建筑工地上,6栋气派的建筑大楼已经封顶,这就是由沈阳拓荆科技有限公司投资建设的中国首个半导体薄膜设备生产基地的所在地。该项目总投资3亿元,年底拓荆公司将实现整体搬迁、项目正式投入使用。未来,这里将成为沈阳高端装备制造发展新的增长极,也将对东北装备制造业迈向中高端起到促进作用。

  据拓荆公司副总经理孙丽杰介绍,这是拓荆公司获得国家2.7亿元集成电路产业发展基金后的首个大手笔动作。根据国家大基金要求,产业基金中一部分资金将用于企业产能扩张中的基础设施建设,剩余资金将用于支持企业研发投入。“根据我们的规划,基地投入使用后,这里将具备承担国际一流半导体薄膜设备的研发、生产、调试能力,每年将有100到300台设备从这里进入到国内外最先进的芯片制造生产线上,这将给拓荆公司每年带来30亿元以上的产值。”

  拓荆公司自主研发的PECVD设备,俗称半导体薄膜设备,是芯片制造生产线上最重要的四种设备之一。据了解,一条投资70亿美元的芯片制造生产线,需要5亿美金左右来采购100多台PECVD,可见此类设备在芯片制造环节中的关键性作用。

  过去,这种PECVD设备的核心技术长期被美日等少数发达国家垄断,设备进口受到严格限制,且价格居高不下。孙丽杰告诉记者,目前,拓荆公司PECVD设备已经达到国际同类产品水平,而且已经具备20台套/年生产能力。同时,其生产的12英寸PECVD设备日前已经在中芯国际获得4台套的重复订单,未来还将有可能被批量采购。

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